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改寫半導體發展史 林本堅將任教清華

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【大紀元2016年07月20日訊】(大紀元記者林寶雲台灣新竹報導)以浸潤式(Immersion)微影技術改寫全球半導體微影發展的台積電前研發副總經理、中研院院士林本堅,今年加入清華大學,擔任講座教授。

林本堅表示,他原規畫退休之後,只做兩件事,就是傳福音及幫助人得到更豐富的生命,後來一想,教書也是幫助人得到豐富生命的好方法,「我在產業界服務了46年,學到很多,也希望能教給下一代。除了教導專業知識外,他點出,學生在校常只為自己的成績競爭,因此希望能激發學生創意,教導他們解決問題以及團隊合作的能力。這是他想教給清華學生的一項重要能力。

清華光電所自林本堅加入研究團隊後,已舉辦3場「林本堅院士學術沙龍」,邀請林本堅與清華教授討論光電領域發展以及微影製程研究。林本堅表示,清華光電所教授們的研究題目有些讓他很有興趣,希望未來能與教授合作,協助教授研究發展。

林本堅將任教清華。(清大提供)
林本堅將任教清華。(清大提供)

林本堅曾任職於IBM在美國的研究中心,帶領團隊創造出許多領先全球的技術,在工作22年後選擇在美國自行創業將近10年。2000年加入台積電, 2002年開始推動浸潤式微影技術。「不管遇到什麼問題,不能死守一種方法,要把心放上去,把問題解決。」林本堅創全球之先提出的浸潤式微影技術,以水為介質,在鏡頭和晶圓之間注入水,光的波長在水中縮短為134奈米,得以刻出更精密的晶片,此項技術對全球半導體產業及台積電先進製程貢獻極大。他在台積電研發的期間帶領團隊從130奈米、做到90奈米、65奈米、40奈米、28奈米、20奈米、和16奈米,並開始研發10奈米、7奈米、和5奈米。

林本堅獲獎無數,曾10度獲美國IBM傑出發明獎、美國IBM傑出貢獻獎、2008年當選美國國家工程學院院士,因浸潤式微影技術的創新,獲頒2013年國際電機電子工程師學會(IEEE)西澤潤一獎、及2009 Cledo Brunetti 獎、2013工業研究院院士、2008 俄亥俄州立大學傑出校友、2004國際光學和光電學會(SPIE)的首屆Frits Zernike奬、2004潘文淵文教基金會研究傑出獎、2003 IEEE會士、2003 SPIE 會士;2014年獲選為中研院院士,為國內最高學術殿堂首位企業界院士。

責任編輯:鄭樺

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