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涉盜竊半導體技術 硅谷2華裔高管被起訴

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【大紀元2017年12月08日訊】(大紀元記者周鳳臨綜合報導)硅谷4位高管遭聯邦起訴,他們涉嫌從公司竊取半導體技術機密、並試圖將此機密用於創建總部位於中國和美國的初創公司,涉案高管中包括2名華裔高管陳亮(Liang Chen,音)和徐偉雲(Wei-Yung Hsu)。

被盜取的是用於照明和電子設備的半導體晶圓的大規模生產技術。雖然起訴書暫未透露公司名稱,但公共紀錄顯示,這些涉案人員在2012年前後犯案期間,都曾在總部位於聖塔克拉拉(Santa Clara)的半導體巨頭應用材料公司(Applied Materials Inc.)任職。

他們被指控從雇主供員工使用的內部工程數據庫中,盜取了這一機密技術相關信息,包括多達1.6萬份圖紙。這些嫌犯還在互通信息的電子郵件中,談到了打算將這一技術用於創建一家新公司,並積極尋求投資者。

現年52歲居住在薩拉托加(Saratoga)的陳亮, 原為公司副總、替代能源產品部總經理;徐偉雲現年57歲,居住在聖荷西(San Jose),也是一名副總,兼半導體LED部門總經理。其餘2名被起訴的涉案高管有:現年54歲的帕洛阿圖(Palo Alto)居民、該公司產品業務部工程總監唐納德‧奧加多(Donald Olgado),和現年60歲的Aptos居民、替代能源部能源及環境系統主任羅伯特‧埃沃德(Robert Ewald)。

起訴書顯示,這4名高管每人被控犯有一項陰謀盜取商業機密罪,和11項持有被盜商業機密罪,起訴由美國聯邦檢察官布萊恩‧斯特里奇(Brian J. Stretch)和聯邦調查局(FBI)探員約翰‧本尼特(John F. Bennett)宣布。這些起訴罪名出自聯邦大陪審團於11月30日下發的起訴文檔。

若認定罪名成立,這4名高管將面臨最高達10年的徒刑,以及每人25萬美元罰款。◇

(此文發表於1163E期舊金山灣區新聞版)

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責任編輯:王洪生

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