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【大纪元4月24日报导】（中央社记者黄彦瑜新竹市24日电）国立交通大学今天颁授胡正明名誉博士学位。交大表示，胡正明是半导体物理及元件领域中的先驱，曾创下第一位新竹科学园区人士获中央研究院院士的纪录。
交大校长吴妍华表示，胡正明在半导体领域有重要贡献，曾出版过4本专书，发表超过900篇论文，拥有逾百件的美国专利。
她说，胡正明于1999年研发的三维传输设计“FinFET”，在2011年被Intel采用生产三闸（Tri-Gate）晶片处理器，效能比起前一代处理器提升37%，耗电量节省50%，因此被誉为半导体技术50年间最具突破性的进步，对元件持续微型化发展有重大影响。
她说，胡正明2001年返台担任台积电技术长，被誉为“台湾第一技术长”，并于2004年创下新竹科学园区有史以来，第一位园区人士获中研院院士的纪录。胡正明经常来往台、美、中，在多所大学及公司授课演讲，并曾获得柏克莱加州大学首席教授（Chancellor’s professor）荣衔。
胡正明表示，创新产业的发展有赖于卓越大学的投入，学术创新宜以解决产业问题为导向，这样不但能贡献社会，也因受到产业重视和社会认同，而激励师生深入研究的热忱和能力，达到产学双赢。
