【大纪元2015年12月30日讯】根据国家科学基金会发布的消息，总统奥巴马把今年最高荣誉的科学奖授予4名来自湾区的科学家。来自台湾的胡正明是唯一上榜的华裔。另外三人则获得国家科学奖章，他们分别是来自斯坦福大学的Albert Bandura和Stanley Falkow，劳伦斯.伯克利国家实验室的Armand P. Alivisatos。奥巴马在他的颁奖中写道：“他们的工作成果是美国人民具有创造力的体现。”
胡正明1947年出生于北京豆芽菜胡同，在台湾长大，后来考入加州大学伯克利分校。胡正明目前是加大伯克利分校电气工程和计算机科学教授，1997年当选美国国家工程院院士。就在本月，他刚当选美国发明家学会（NAI，National Academy of Inventors）院士。胡正明获得过很多奖项，这次他获得了总统颁发的国家技术与革新奖章。
胡正明是微电子微型化和可靠性领域的主要开拓者，也是鳍式场效晶体管（FinFET）的发明者，如今三星、台积电能做到14nm/16nm都依赖这项技术。
FinFET技术允许半导体工业生产更小更可靠和性能更高的集成电路。胡正明曾介绍，FinFET有两个突破，一是把晶体做薄后解决了漏电问题，二是向上发展，晶片内构从水平变成垂直。他认为，FinFET的真正影响是打破原来英特尔对全世界宣布的将来半导体的限制，这项技术现在仍看不到极限。
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