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改写半导体发展史 林本坚将任教清华

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【大纪元2016年07月20日讯】(大纪元记者林宝云台湾新竹报导)以浸润式(Immersion)微影技术改写全球半导体微影发展的台积电前研发副总经理、中研院院士林本坚,今年加入清华大学,担任讲座教授。

林本坚表示,他原规划退休之后,只做两件事,就是传福音及帮助人得到更丰富的生命,后来一想,教书也是帮助人得到丰富生命的好方法,“我在产业界服务了46年,学到很多,也希望能教给下一代。除了教导专业知识外,他点出,学生在校常只为自己的成绩竞争,因此希望能激发学生创意,教导他们解决问题以及团队合作的能力。这是他想教给清华学生的一项重要能力。

清华光电所自林本坚加入研究团队后,已举办3场“林本坚院士学术沙龙”,邀请林本坚与清华教授讨论光电领域发展以及微影制程研究。林本坚表示,清华光电所教授们的研究题目有些让他很有兴趣,希望未来能与教授合作,协助教授研究发展。

林本坚将任教清华。(清大提供)
林本坚将任教清华。(清大提供)

林本坚曾任职于IBM在美国的研究中心,带领团队创造出许多领先全球的技术,在工作22年后选择在美国自行创业将近10年。2000年加入台积电, 2002年开始推动浸润式微影技术。“不管遇到什么问题,不能死守一种方法,要把心放上去,把问题解决。”林本坚创全球之先提出的浸润式微影技术,以水为介质,在镜头和晶圆之间注入水,光的波长在水中缩短为134奈米,得以刻出更精密的晶片,此项技术对全球半导体产业及台积电先进制程贡献极大。他在台积电研发的期间带领团队从130奈米、做到90奈米、65奈米、40奈米、28奈米、20奈米、和16奈米,并开始研发10奈米、7奈米、和5奈米。

林本坚获奖无数,曾10度获美国IBM杰出发明奖、美国IBM杰出贡献奖、2008年当选美国国家工程学院院士,因浸润式微影技术的创新,获颁2013年国际电机电子工程师学会(IEEE)西泽润一奖、及2009 Cledo Brunetti 奖、2013工业研究院院士、2008 俄亥俄州立大学杰出校友、2004国际光学和光电学会(SPIE)的首届Frits Zernike奖、2004潘文渊文教基金会研究杰出奖、2003 IEEE会士、2003 SPIE 会士;2014年获选为中研院院士,为国内最高学术殿堂首位企业界院士。

责任编辑:郑桦

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