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台亚太学院夺4项国际发明大奖

亚太创意技术学院副教授林宗新(图)进行溅镀铜合金 薄膜相关研究,接连夺下4项国际发明展大奖,6日获苗栗县政府公开表扬。(苗栗县政府提供)
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【大纪元2017年06月06日讯】亚太创意技术学院副教授林宗新进行溅镀铜合金薄膜相关研究,接连获4项国际发明展大奖。苗栗县府今天公开表扬他的杰出表现,盼能应用于微电子封装等科技领域,造福社会。

亚太通识教育中心副教授林宗新的“具低电阻与良好接着强度之铜镀层及其溅镀合成”研究,去年10月起相继夺得德国纽伦堡国际发明展(IENA)银牌奖以及第2届香港HKIE国际发明创新创业展金牌奖。

林宗新获奖后持续研究,5月间再以“作为缓冲层之铜镀层及其制作方法”,分别荣获马来西亚第7届国际工程发明创新展(i-ENVEX)金牌、俄罗斯第20届莫斯科阿基米德国际发明展金牌,相关研究作品累计囊括3金1银国际发明大奖。

苗栗县副县长邓桂菊今天代表县长徐耀昌,接见表扬林宗新及亚太技术学院团队,肯定优异学术表现,在历次国际具指标性发明展中脱颖而出,成果丰硕,不仅为自己及学校赢得荣耀,更为苗栗、台湾争光。

林宗新指出,铜的导电性虽佳,却易与硅基板起化学反应而使其应用受阻,他的溅镀铜合金薄膜研究,考量不使用阻障层的情况下,改将微量物质掺杂于铜镀层中,借此提升铜之稳定性,有望成为未来微电子制程的良好替代方案。

他在研究中发现,在IC晶圆封装的镀膜过程中,导入微量惰性气体“氮”,退火后将于界面生成反应层,可扮演类似阻障层之角色,抑制铜硅化合物反应,并进一步提升铜硅化合物形成温度。

林宗新说,这项发明可运用在铜导线、IC晶圆与半导体封装上,应用很广泛,相较于国内外使用溅镀铜合金薄膜阻障层制程,他的研究具简化制程、降低制造成本等特点,期待与厂商合作,为科技产业贡献智慧。(转自中央社)

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