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应用材料推出VeritySEM量测系统

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【大纪元2月28日讯】(中央社记者何易霖新竹二十八日电)美商应用材料公司(Appalied Materials)宣布推出采用微距量测扫描式电子显微镜(CD-SEM)技术的高产能“VeritySEM”量测系统,使得微影控制与蚀刻制程的能力都有重大的改善,并能协助客户有效节省成本。这套系统已获亚洲、北美及欧洲等地晶圆厂采用。

应材表示,在迈向下一个世代的元件制程时,客户除了面临更先进技术和制程控制的挑战外,同时也需要简化12吋晶圆厂的晶圆制程(WIP-Wafer in Process)。VeritySEM量测系统采用新式的扫描式电子显微镜技术,对于65-45奈米的元件结构,严格监控氩氟(ArF)光阻结构、导线边缘的平滑度和形状,精确度达到小于5埃。

应材进一步指出,VeritySEM量测系统中所具备的新扫描式电子显微镜技术,在超低电压下 (200eV),能提供小于1.8奈米的解析度,以及无变形的大视野扫描功能,并能协助量测45奈米产品的闸极和小于5埃精确度的氩氟(ArF)光阻结构设计。而创新多变的电子束电流控制模组可以改善信号干扰比率,促使更快且更扎实的制程自动化运作,进而提升产能。

此外,在误差1奈米范围之内,各种VeritySEM系统在同一晶圆厂内或不同晶圆厂之间都能相通,客户使用时,所消耗的营运成本将比使用市面上其他的CD-SEM系统减少1/3的费用。

(http://www.dajiyuan.com)

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