【大紀元9月12日訊】( 大紀元記者戴兵紐約攝影報導) 第二屆新唐人全球漢服回歸設計大獎賽﹐於9月11日晚上在曼哈頓喬治王子宴會廳舉行了頒獎典禮。以下是工藝特別獎得主Winna Lin的作品「歸」。
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
組圖﹕ 一睹工藝特別獎作品風采
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
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工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
工藝特別獎作品「歸」(攝影﹕戴兵/ 大紀元)
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