【大纪元2017年12月08日讯】（大纪元记者周凤临综合报导）硅谷4位高管遭联邦起诉，他们涉嫌从公司窃取半导体技术机密、并试图将此机密用于创建总部位于中国和美国的初创公司，涉案高管中包括2名华裔高管陈亮（Liang Chen，音）和徐伟云（Wei-Yung Hsu）。
被盗取的是用于照明和电子设备的半导体晶圆的大规模生产技术。虽然起诉书暂未透露公司名称，但公共纪录显示，这些涉案人员在2012年前后犯案期间，都曾在总部位于圣塔克拉拉（Santa Clara）的半导体巨头应用材料公司（Applied Materials Inc.）任职。
他们被指控从雇主供员工使用的内部工程数据库中，盗取了这一机密技术相关信息，包括多达1.6万份图纸。这些嫌犯还在互通信息的电子邮件中，谈到了打算将这一技术用于创建一家新公司，并积极寻求投资者。
现年52岁居住在萨拉托加（Saratoga）的陈亮， 原为公司副总、替代能源产品部总经理；徐伟云现年57岁，居住在圣荷西（San Jose），也是一名副总，兼半导体LED部门总经理。其余2名被起诉的涉案高管有：现年54岁的帕洛阿图（Palo Alto）居民、该公司产品业务部工程总监唐纳德‧奥加多（Donald Olgado），和现年60岁的Aptos居民、替代能源部能源及环境系统主任罗伯特‧埃沃德（Robert Ewald）。
起诉书显示，这4名高管每人被控犯有一项阴谋盗取商业机密罪，和11项持有被盗商业机密罪，起诉由美国联邦检察官布莱恩‧斯特里奇（Brian J. Stretch）和联邦调查局（FBI）探员约翰‧本尼特（John F. Bennett）宣布。这些起诉罪名出自联邦大陪审团于11月30日下发的起诉文档。
若认定罪名成立，这4名高管将面临最高达10年的徒刑，以及每人25万美元罚款。◇
（此文发表于1163E期旧金山湾区新闻版）
责任编辑：王洪生
