【大紀元2026年07月28日訊】（大紀元記者林燕綜合報導）美國銀行（Bank of America）的一份報告指出，中國芯片設備的威脅被誇大，荷蘭芯片製造設備大廠阿斯麥（ASML）的主導地位難超越。
週一（7月27日），《The Information》報導，中國企業正在開始量產浸沒式深紫外光刻機（DUV），預計2026年生產5台，2027年生產約20台。
投資者擔心，如果北京繼續發展自主半導體技術，可能會將一些美國、歐洲和其它亞洲最大的公司排除在中國市場之外。ASML在該市場一直占據主導地位。ASML的股票週一下跌5.9%，週二再次下跌5%。
DUV是一種用於在硅晶圓上蝕刻電路圖案的設備。它是半導體製造過程中至關重要的環節，被台積電（TSMC）和英特爾等代工廠廣泛採購。但它主要用於生產技術水平較低的芯片。
相比之下，蘋果公司和英偉達設計的最先進芯片需要使用極紫外（EUV）光刻機，ASML禁止出口EUV光刻機到中國。
行業人士表示，中國量產光刻機需要突破幾個關鍵限制，第一個是機器生產芯片的「良率」，第二個是機器本身的量產規模。
中國芯片廠良率低 連用進口設備都遠低於台積電
半導體製造商關注的核心指標是光刻機的「良率」，所有代工廠的目標都是實現最高的良率。良率是指工藝流程中最終可用的芯片數量。
Futurum Group人工智能負責人尼克‧佩興斯（Nick Patience）告訴CNBC，中國產DUV光刻機要跟ASML競爭，至少需要達到良率持平，而不僅僅說設備可用。
據佩興斯透露，中國芯片廠的良率低，連中國最大的芯片製造商中芯國際（SMIC）使用進口DUV光刻機，其良率仍遠遜於台灣的台積電（TSMC）。
「任何由不知名的國有企業製造的機器，其起點都不會很高。」他說，「可靠性需要多年的現場疊代，ASML已經實現了這一點，而中國至今都望塵莫及。」
如果良率遠低於ASML設備，肯定會阻礙中國設備的推廣或普及。
中國產光刻機無法實現大規模量產
中國面臨的另一個挑戰是擴大這些機器的產能。開發DUV工具的中國公司計劃2026年生產5台，到2027年達到20台左右。相比之下，ASML計劃在2026年實現約130台DUV浸沒式設備的產能，並計劃在2027年增加30%。
SemiAnalysis的分析師團隊告訴CNBC：「工具性能、機器本身的產能規模、設備整體性能、周邊生態系統，以及與折舊後的ASML機器經濟性，所有這些因素都讓中國DUV設備處於劣勢。」
其中，機器本身的產能規模會是最被低估的部分。
國際策略諮詢公司DGA Albright Stonebridge Group的合夥人保羅‧特里奥洛（Paul Triolo）告訴CNBC，任何對ASML的挑戰都將要求這家中國公司批量生產可靠的設備，並在全球各種晶圓廠環境中提供支持，目前看來這是相當有難度的。
「在國內提供少量功能有限的DUV設備是一回事，而支持能夠真正與ASML競爭的全球設備群則是另一回事。」他說。
中國產光刻機可能進入非常低端的領域
ODDO BHF股票研究主管斯蒂芬‧胡瑞（Stephane Houri）研判，中國量產光刻機可能最終也僅限於非常低端的領域。
路透社的歐洲科技專欄作家珍妮弗‧約翰遜（Jennifer Johnson）週二撰文說，可以理解投資者感到不安，但ASML的技術領先優勢巨大，市場需求不會輕易改變。
她表示，外界對中國新設備的性能、可靠性和芯片處理速度都存在疑慮，這意味著ASML可以在技術上擁有持久優勢，並領先於其新興競爭對手。僅在2025年，ASML就售出了279台DUV設備，而且還有很多芯片企業排隊等待下單。
約翰遜承認，中國未來是否可能生產出足以挑戰ASML現有設備的長期擔憂，這確實是一個存在的風險，但目前還不是迫在眉睫的問題。
多位分析師看好ASML後續發展
美國銀行的分析師迪迪埃‧斯切馬馬（Didier Scemama）表示，目前是市場反應過度，其實中企對ASML的威脅並不大。
「要取代ASML，需要找到一款在生產效率、製程水準和擁有成本方面與之相當的國產替代產品。這仍然是一個巨大的挑戰。」他寫道。
斯切馬馬還指出，即使中國能夠本地採購20台DUV，到2027年也只會對ASML的銷售額造成14億歐元的影響，僅占這家荷蘭公司集團銷售額的2.4%。
「中國仍然是ASML的重要市場，預計到2026年，中國市場將占ASML銷售額的約20%，深紫外光刻機收入的44%。」報告說。
美國銀行重申了對ASML的「買入」評級，而且還維持了對ASML美國上市股票2,845美元的目標價。這意味著較週一收盤價有超過70%的上漲空間。
該銀行還將ASML股票列為「首選股」。
不止美國銀行，目前已有另外21位分析師看好ASML的股票走勢，紛紛給出「買入」或「強力買入」的評價。分析師給出的ASML每股目標價平均為2,172.27美元，預計股價將從目前水平上漲超過30%。
責任編輯：林姸#
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