涉嫌向中共泄漏核心技术 两韩国人被判有罪

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【大纪元2023年10月17日讯】(大纪元专题部记者吴欢心综合报导)韩企三星和SK海力士长期以来是中共技术偷窃的主要对象。最近再有两宗三星显示器和SK海力士芯片的核心技术盗窃事件被公开,涉嫌的前三星研究员和韩企高管分别被捕和判刑。

韩国检方近日以涉嫌违反《不正当竞争防止法》(将商业秘密泄露到国外),起诉前三星显示器(SDC)首席研究员A某(49岁)。他涉嫌从2018年到2020年5月试图将三星显示器的商业秘密OLED显示器ELA(Excimer Laser Annealing)设备反转光学系统,以及OCR喷墨设备相关技术泄露给中国企业。

ELA设备反转光学系统是指维持向OLED显示屏电子电路发射的激光强度和安全性的装置。OCR喷墨设备是OLED显示屏的面板和玻璃盖板黏合的设备。这两项技术都是三星显示器有机发光二极管(OLED)制造的核心技术,经济价值至少达3400亿韩圜(约25亿美元)。

A某是OLED显示器领域的专家,在三星显示器工作超过10年,从三星显示器退休后在韩国设立并经验了显示器企业B公司,在中国设立了C公司。他将三星的OLED显示器技术转移到B公司后,试图再将技术通过C公司向中国企业销售。为此,他还把在三星显示器任职时有交情的研究员、职员、朋友也牵入了犯罪中。

与A某共谋的5名同伙于2020年8月被起诉,其中,前三星显示器研究员等3人被判处有期徒刑1至2年,另2人被判处有期徒刑缓期执行。当时作为主犯的A某逃往中国,今年5月他主动回到韩国接受检察机关的调查。

此外,首尔中央地方法院9月中旬判处SK海力士的合作企业副社长D某(59岁)有期徒刑1年。

SK海力士的合作企业被判罚款4亿韩圜(约30万美元),同时被起诉的7名职员被判处有期徒刑8个月到1年6个月的缓期执行或罚款。他们于2021年1月因涉嫌违反《产业技术保护法》和《不正当竞争防止法》被起诉。

D某等人涉嫌从2018年开始把其与SK海力士合作过程中所掌握的HKMG半导体制造技术和清洁配方等半导体相关核心技术、商业秘密泄露给中国半导体竞争企业。

HKMG是防止电流泄漏、改善静电容量的新一代工程,是一种能加快DRAM半导体速度又能减少消耗电力的新技术。

他们还涉嫌利用从三星电子和子公司Semes前任职员那里偷偷获得的超临界清洗设备图纸等半导体尖端技术和商业秘密,开发了可以出口中国的设备。超临界技术是利用二氧化碳清洗半导体基板将损伤最小化的新一代技术,被韩国产业通商资源部指定为国家核心技术。

检方表示,由于这些人的被查处,阻止了HKMG半导体制造技术的进一步被泄露,同时阻断了向中国出口使用被泄露的技术所制造的半导体超临界清洗设备的意图。

9成技术泄露案涉及中国的技术盗窃 韩政府拟加强处罚

根据韩国法务部《强化技术泄露犯罪量刑标准》的资料显示,揭露韩国产业技术泄露到海外的件数在最近6年间(2017年至2022年)共达117件,其中36项为国家关键技术。根据韩国司法部的数据,泄露到海外的所有案例中92.3%涉及中国的技术盗窃。

韩国的产业技术频繁被窃取,而处罚过轻的问题一直备受舆论和产业界指责。“全经联”的资料显示,2021年因违反产业技术保护法而被处理的一审刑事公审案件中,60.6%判无罪,27.2%判缓期执行。即每10人中有8人犯下技术泄露犯罪但没有入狱。

韩国产业通商资源部今年8月底表示,“目前处罚水平较低的原因是量刑标准和构成犯罪条件存在漏洞,计划首先强化处罚标准。”

产业通商资源部表示,已经向量刑委员会提交要求对技术泄露犯罪量刑标准进行分离强化的意见,也就是说,要另行设定国家核心技术泄露等的量刑标准。量刑委员会在审议标准案后,将于明年1月确定,预计最终表决将在明年3月进行。

产业通商资源部还表示,将把通过外国私募基金的收购合并(M&A)等此前在制度上未能限制的主要技术泄露途径也包括在限制对象中。

责任编辑:连书华#

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