美議員促擴大制裁 阻中芯國際購DUV光刻機

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【大紀元2021年03月21日訊】(大紀元記者蘇靜好綜合報導)中芯國際(SMIC)已被川普(特朗普)政府列入出口黑名單。週四(3月18日),美國國會兩名共和黨資深議員致信商務部長雷蒙多,敦促拜登政府進一步收緊對中芯的出口限制,以阻止中芯從世界上其它地方獲得源自美國先進技術的設備或產品。

議員們希望拜登政府勸說荷蘭政府阻止阿斯麥(ASML)將DUV(深紫外線)光刻機出售給中芯,以及將出售給中芯的芯片閾值設置為16納米。

中芯國際是中國最大的芯片製造商。荷蘭阿斯麥公司不久前宣布繼續向中芯出售DUV光刻機至2021年。

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美國聯邦參議員馬可‧盧比奧(Marco Rubio)和眾議員邁克爾‧麥考爾(Michael McCaul)敦促美國商務部部長吉娜‧雷蒙多(Gina Raimondo)將「外國製造直接產品規則(FDPR)」應用於被列入商務部實體名單的中芯國際。

去年12月,盧比奧和麥考爾也曾寫信給前商務部長羅斯,敦促他加強對中芯國際的出口限制。

參議員18日在給雷蒙多的信中寫道:「由於中芯國際被指定為中共軍方公司,並被納入中國(中共)的國防設施以及其軍民融合國家戰略,因此對美國國家安全構成明顯威脅。」「禁止可能支持中芯國際生產半導體的貨物轉讓,符合美國的國家安全利益,因為該公司在幫助中共軍方『取代美國』,以實現未來全球領先地位。」

促拜登政府與荷蘭政府合作 阻止ASML向中芯銷售DUV

該信首先寫道,本月初,荷蘭公司阿斯麥(ASML Holdings NV)宣布,延長2020年12月到期的批量購買協議,將繼續向中芯國際出售深紫外光刻(DUV)工具,直到2021年。

DUV技術屬於先進技術,除ASML外,全球只有另一家公司可以提供這種先進的製造設備。DUV是大規模生產用於人工智能和軍事開發的高級別芯片的重要工具,對美國的國家安全和外交政策利益構成威脅。

盧比奧和麥考爾建議,直接與盟國政府合作是減輕這種威脅的最佳方法。「我們要求您與荷蘭政府合作,說服他們阻止ASML向中芯國際銷售DUV光刻機。此外,我們需要與這些盟國達成全面協議,以統一出口管制政策和許可決定,並限制深紫外線和極端紫外線光刻等技術在未來的銷售。」

確保中芯無法從世界任何地方獲得關鍵半導體製造設備

兩位議員在信中還要求將「外國製造直接產品規則」(FDPR)應用於被列入實體名單的中芯國際,並以川普政府對華為的出口限制規則為先例,以阻止中芯國際獲得任何使用源自美國技術的半導體製造設備。

「我們必須確保中芯無法從世界任何地方獲得關鍵半導體製造設備。」議員們說。

2019年5月,川普政府的商務部將華為納入實體名單。美國公司未經許可不得向華為出口或轉讓某些技術或部件。

2020年8月,川普行政的商務部發布修訂「外國製造直接產品規則」的最後規則,擴大了受美國出口管制的非美國物項範圍,進一步限制對華為的技術和產品出售。

如果FDPR規則用於中芯國際,將意味著中芯國際不僅無法從美國獲得相關產品和設備,也不能從美國以外的地方購買使用或融合了美國技術而製造的產品或設備。

信中還敦促雷蒙多強烈考慮將DUV和其它半導體製造設備列入商務部監管的法定基礎技術清單。

為何16納米是一個門檻

議員們還提到美國國家人工智能安全獨立委員會的一份報告,該報告中建議美國與荷蘭、日本進行協調,拒絕向中國出口關鍵芯片製造設備(例如DUV)。

議員們在信中提出具體意見說,美國不應該支持那些支持中共軍事優勢目標的公司。具體要求是修改對SMIC出口限制的規則,將閾值設置為16納米,並用「capable of producing」代替「uniquely required」一詞。這將是邁出的重要一步,防止中共軍事現代化計劃,使美國及其盟國免受中共威脅。

在目前的制裁下,對於中芯國際及其關聯企業(共計11個實體),出口、再出口、轉讓(境內)「用於生產先進工藝節點(10納米或以下)的半導體產品所需的物項」(Items uniquely required to produce semiconductorsat advanced technology nodes—10 nanometers or below)採取「推定拒絕」的審查政策,對於其它受EAR管轄的物項實行「逐案審查」的政策。

3月1日,美國人工智能國家安全委員會(NSCAI)發布一份長達756頁的報告,報告第14章《技術保護》提出三方面建議:為了限制中共在人工智能方面的發展,美國應該強制中國公司披露在美投資人工智能情況,禁止出口光刻機等關鍵技術設備到中國,國會應通過《學術研究保護法》等。

人工智能國家安全委員會評估認為,16納米對先進的人工智能應用最為有用。生產16納米及以下芯片所需的光刻機,特別是極紫外(EUV)和氟化氬(ArF)浸入式光刻機,是最複雜、最昂貴的機型。

美國國務院和商務部應該與荷蘭和日本政府合作,使這三個國家在高端光刻機,特別是EUV和ArF浸入式光刻機的出口許可政策一致。這將抑制中共在國內大規模生產7納米或5納米芯片的努力,並通過限制中國企業維修或更換現有設備的能力,制約中共在16納米或16納米以下的芯片的半導體生產能力。

雷蒙多在參議院確認聽證會上承諾,將「充分利用美國商務部的所有權限,保護美國的國家經濟安全利益」。盧比奧和麥考爾敦促雷蒙多提早兌現承諾,並表示,面對威脅,商務部需要與國會進行緊密而坦率的合作。

責任編輯:李緣#

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