美议员促扩大制裁 阻中芯国际购DUV光刻机

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【大纪元2021年03月21日讯】(大纪元记者苏静好综合报导)中芯国际(SMIC)已被川普(特朗普)政府列入出口黑名单。周四(3月18日),美国国会两名共和党资深议员致信商务部长雷蒙多,敦促拜登政府进一步收紧对中芯的出口限制,以阻止中芯从世界上其它地方获得源自美国先进技术的设备或产品。

议员们希望拜登政府劝说荷兰政府阻止阿斯麦(ASML)将DUV(深紫外线)光刻机出售给中芯,以及将出售给中芯的芯片阈值设置为16纳米。

中芯国际是中国最大的芯片制造商。荷兰阿斯麦公司不久前宣布继续向中芯出售DUV光刻机至2021年。

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美国联邦参议员马可‧卢比奥(Marco Rubio)和众议员迈克尔‧麦考尔(Michael McCaul)敦促美国商务部部长吉娜‧雷蒙多(Gina Raimondo)将“外国制造直接产品规则(FDPR)”应用于被列入商务部实体名单的中芯国际。

去年12月,卢比奥和麦考尔也曾写信给前商务部长罗斯,敦促他加强对中芯国际的出口限制。

参议员18日在给雷蒙多的信中写道:“由于中芯国际被指定为中共军方公司,并被纳入中国(中共)的国防设施以及其军民融合国家战略,因此对美国国家安全构成明显威胁。”“禁止可能支持中芯国际生产半导体的货物转让,符合美国的国家安全利益,因为该公司在帮助中共军方‘取代美国’,以实现未来全球领先地位。”

促拜登政府与荷兰政府合作 阻止ASML向中芯销售DUV

该信首先写道,本月初,荷兰公司阿斯麦(ASML Holdings NV)宣布,延长2020年12月到期的批量购买协议,将继续向中芯国际出售深紫外光刻(DUV)工具,直到2021年。

DUV技术属于先进技术,除ASML外,全球只有另一家公司可以提供这种先进的制造设备。DUV是大规模生产用于人工智能和军事开发的高级别芯片的重要工具,对美国的国家安全和外交政策利益构成威胁。

卢比奥和麦考尔建议,直接与盟国政府合作是减轻这种威胁的最佳方法。“我们要求您与荷兰政府合作,说服他们阻止ASML向中芯国际销售DUV光刻机。此外,我们需要与这些盟国达成全面协议,以统一出口管制政策和许可决定,并限制深紫外线和极端紫外线光刻等技术在未来的销售。”

确保中芯无法从世界任何地方获得关键半导体制造设备

两位议员在信中还要求将“外国制造直接产品规则”(FDPR)应用于被列入实体名单的中芯国际,并以川普政府对华为的出口限制规则为先例,以阻止中芯国际获得任何使用源自美国技术的半导体制造设备。

“我们必须确保中芯无法从世界任何地方获得关键半导体制造设备。”议员们说。

2019年5月,川普政府的商务部将华为纳入实体名单。美国公司未经许可不得向华为出口或转让某些技术或部件。

2020年8月,川普行政的商务部发布修订“外国制造直接产品规则”的最后规则,扩大了受美国出口管制的非美国物项范围,进一步限制对华为的技术和产品出售。

如果FDPR规则用于中芯国际,将意味着中芯国际不仅无法从美国获得相关产品和设备,也不能从美国以外的地方购买使用或融合了美国技术而制造的产品或设备。

信中还敦促雷蒙多强烈考虑将DUV和其它半导体制造设备列入商务部监管的法定基础技术清单。

为何16纳米是一个门槛

议员们还提到美国国家人工智能安全独立委员会的一份报告,该报告中建议美国与荷兰、日本进行协调,拒绝向中国出口关键芯片制造设备(例如DUV)。

议员们在信中提出具体意见说,美国不应该支持那些支持中共军事优势目标的公司。具体要求是修改对SMIC出口限制的规则,将阈值设置为16纳米,并用“capable of producing”代替“uniquely required”一词。这将是迈出的重要一步,防止中共军事现代化计划,使美国及其盟国免受中共威胁。

在目前的制裁下,对于中芯国际及其关联企业(共计11个实体),出口、再出口、转让(境内)“用于生产先进工艺节点(10纳米或以下)的半导体产品所需的物项”(Items uniquely required to produce semiconductorsat advanced technology nodes—10 nanometers or below)采取“推定拒绝”的审查政策,对于其它受EAR管辖的物项实行“逐案审查”的政策。

3月1日,美国人工智能国家安全委员会(NSCAI)发布一份长达756页的报告,报告第14章《技术保护》提出三方面建议:为了限制中共在人工智能方面的发展,美国应该强制中国公司披露在美投资人工智能情况,禁止出口光刻机等关键技术设备到中国,国会应通过《学术研究保护法》等。

人工智能国家安全委员会评估认为,16纳米对先进的人工智能应用最为有用。生产16纳米及以下芯片所需的光刻机,特别是极紫外(EUV)和氟化氩(ArF)浸入式光刻机,是最复杂、最昂贵的机型。

美国国务院和商务部应该与荷兰和日本政府合作,使这三个国家在高端光刻机,特别是EUV和ArF浸入式光刻机的出口许可政策一致。这将抑制中共在国内大规模生产7纳米或5纳米芯片的努力,并通过限制中国企业维修或更换现有设备的能力,制约中共在16纳米或16纳米以下的芯片的半导体生产能力。

雷蒙多在参议院确认听证会上承诺,将“充分利用美国商务部的所有权限,保护美国的国家经济安全利益”。卢比奥和麦考尔敦促雷蒙多提早兑现承诺,并表示,面对威胁,商务部需要与国会进行紧密而坦率的合作。

责任编辑:李缘#

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