【大紀元2026年07月31日訊】（大紀元記者高杉編譯報導）美囯智庫發布報告警告，雖然西方國家成功阻止對北京出口最先進的光刻機，但中方繞過禁令進口舊設備並改良工藝，仍能量產5納米芯片。專家呼籲新立法堵住相關漏洞。
進口舊設備改進工藝量產芯片
據《國家利益》雜誌週三（7月29日）報導，智庫美國企業研究所（American Enterprise Institute）當天發布的一份分析報告指出，儘管荷蘭自2019年起禁止對華出口阿斯麥最先進的極紫外光（EUV）光刻系統，但中國芯片業者在合法取得的舊型深紫外光浸沒式設備上，通過「多重圖案化」重複曝光新工藝，實現了接近最先進製程的芯片量產。
該報告的作者瑞恩·費達修克（Ryan Fedasiuk）與茱莉亞·托雷斯（Julia Torres）指出，早在2022年，中芯國際就已成功利用升級舊設備工藝的方法量產了7奈米芯片。去年底更被證實，已具備5奈米芯片量產能力。
成本高、產量和合格率低
儘管如此，此法的生產成本較台灣台積電（TSMC）的同等製程高出四至五成。而且由於步驟越多，出錯的機率越高，導致芯片整體合格率較低。
此外，其成本高昂，因為重複曝光需要消耗更多時間、材料與產能，導致製造成本遠高於直接使用EUV光刻機。生產線被大量繁瑣的步驟占用，整體芯片產量無法有效放大。
繞過禁令大量進口舊設備
報告表示，僅在2024年，中國企業就購入了近90台不受禁令限制的深紫外光浸沒式光刻機，加上北京475億美元國家芯片基金支持，預估這批設備全速運轉，每年可生產數百萬片先進芯片，成為華為昇騰人工智慧芯片擴產的關鍵。
價值2.5億美元、如巴士般大小的極紫外光（EUV）光刻機，是印刷全球最先進半導體芯片所必需的設備。每台機器包含超過10萬個零件，以及要求極高的鏡面。
如果把這塊鏡子的表面平滑度，等比例放大到整個德國的國土面積那麼大（德國國土面積約為35.7萬平方公里），鏡面上最大瑕疵也不足一毫米。
拔走北京手中「救命稻草」
該報告建議，針對上述漏洞，美國立法者應儘快通過《MATCH法案》。
2026年4月2日，華盛頓州共和黨聯邦眾議員鮑姆加特納（Baumgartner）主導，聯合12名兩黨議員的共同提案人，提出了《多邊硬體技術控制匹配法案》（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware，簡稱MATCH Act）。
該法案擬全面禁止向中國銷售前代光刻設備、禁止對已安裝機器提供維修，並將華為、中芯國際列為受限最終用途實體。
其中，禁止對深紫外光浸沒式光刻設備進行維修，等於是拔走了北京握在手中的「救命稻草」。因為光刻機體積龐大且複雜，需要專門維護及特殊替換零件，才能維持高產量運作。而維護工作必須由阿斯麥自家技術人員飛往中國完成。
報告作者建議，涉及對盟友（如荷蘭、日本）實施域外管轄的條款應保留為最後手段，避免對阿斯麥及東京威力科創（Tokyo Electron）等企業造成過度衝擊，同時保留外交豁免彈性措施。
分析人士認為，如果舊型設備銷售與維修持續不受管制，中國有望在未來數年大幅提升先進芯片自產能力，為全球人工智慧（AI）硬件市場的競爭格局帶來變數。
責任編輯：李沐恩#
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