【大纪元2026年07月31日讯】（大纪元记者高杉编译报导）美囯智库发布报告警告，虽然西方国家成功阻止对北京出口最先进的光刻机，但中方绕过禁令进口旧设备并改良工艺，仍能量产5纳米芯片。专家呼吁新立法堵住相关漏洞。
进口旧设备改进工艺量产芯片
据《国家利益》杂志周三（7月29日）报导，智库美国企业研究所（American Enterprise Institute）当天发布的一份分析报告指出，尽管荷兰自2019年起禁止对华出口阿斯麦最先进的极紫外光（EUV）光刻系统，但中国芯片业者在合法取得的旧型深紫外光浸没式设备上，通过“多重图案化”重复曝光新工艺，实现了接近最先进制程的芯片量产。
该报告的作者瑞恩·费达修克（Ryan Fedasiuk）与茱莉亚·托雷斯（Julia Torres）指出，早在2022年，中芯国际就已成功利用升级旧设备工艺的方法量产了7奈米芯片。去年底更被证实，已具备5奈米芯片量产能力。
成本高、产量和合格率低
尽管如此，此法的生产成本较台湾台积电（TSMC）的同等制程高出四至五成。而且由于步骤越多，出错的概率越高，导致芯片整体合格率较低。
此外，其成本高昂，因为重复曝光需要消耗更多时间、材料与产能，导致制造成本远高于直接使用EUV光刻机。生产线被大量繁琐的步骤占用，整体芯片产量无法有效放大。
绕过禁令大量进口旧设备
报告表示，仅在2024年，中国企业就购入了近90台不受禁令限制的深紫外光浸没式光刻机，加上北京475亿美元国家芯片基金支持，预估这批设备全速运转，每年可生产数百万片先进芯片，成为华为昇腾人工智慧芯片扩产的关键。
价值2.5亿美元、如巴士般大小的极紫外光（EUV）光刻机，是印刷全球最先进半导体芯片所必需的设备。每台机器包含超过10万个零件，以及要求极高的镜面。
如果把这块镜子的表面平滑度，等比例放大到整个德国的国土面积那么大（德国国土面积约为35.7万平方公里），镜面上最大瑕疵也不足一毫米。
拔走北京手中“救命稻草”
该报告建议，针对上述漏洞，美国立法者应尽快通过《MATCH法案》。
2026年4月2日，华盛顿州共和党联邦众议员鲍姆加特纳（Baumgartner）主导，联合12名两党议员的共同提案人，提出了《多边硬体技术控制匹配法案》（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware，简称MATCH Act）。
该法案拟全面禁止向中国销售前代光刻设备、禁止对已安装机器提供维修，并将华为、中芯国际列为受限最终用途实体。
其中，禁止对深紫外光浸没式光刻设备进行维修，等于是拔走了北京握在手中的“救命稻草”。因为光刻机体积庞大且复杂，需要专门维护及特殊替换零件，才能维持高产量运作。而维护工作必须由阿斯麦自家技术人员飞往中国完成。
报告作者建议，涉及对盟友（如荷兰、日本）实施域外管辖的条款应保留为最后手段，避免对阿斯麦及东京威力科创（Tokyo Electron）等企业造成过度冲击，同时保留外交豁免弹性措施。
分析人士认为，如果旧型设备销售与维修持续不受管制，中国有望在未来数年大幅提升先进芯片自产能力，为全球人工智慧（AI）硬件市场的竞争格局带来变数。
责任编辑：李沐恩#
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