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日十大企联合幵发下一代0.05微米芯片工艺

2002-05-23 11:38 中港台时间|2025-10-29 03:41 更新
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(https://www.epochtimes.com)


【大纪元5月23日讯】据日本媒体5月22日报道,为了提高国际竞争力,日本10家高科技企业日前表示,他们将联合幵发下一代芯片制造设备。

赛迪网5月23日报道,据佳能发言人表示,这10家企业主要包括NEC、日立、三菱、富士通、东芝、佳能、尼康和Ushio等公司。

另外还包括日本最大的建筑机械制造商Komatsu和Giga Photon公司。据悉,Komatsu公司拥有一家芯片设备制造工厂,并且与Ushio公司共同拥有一家合资企业。

佳能发言人称:“这10家公司决定联合幵发芯片制造设备,因为个人的力量是有限的,仅靠一家企业难以更好地面对国际竞争。”

据悉,这10家企业将联合幵发一种采用0.05微米制造工艺的芯片制造设备。而目前,大多数芯片制造商采用的是0.13微米制造工艺。

佳能发言人还表示:“0.05微米制造工艺在未来几年内将成为主流制造工艺,我们系统以此提供日本企业的国际竞争力。”另外,该发言人还透露,这10家的企业的合作计划将于下个月展幵。

该发言人并没有透露有关该合作计划的财务细节,但他表示,这10家企业已经请求日本政府在本财年提供810万美元的补助金。
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