【大纪元2020年07月31日讯】（大纪元记者张原彰台湾台北报导）台积电持续精进制程，自107年起导入干式极紫外光（EUV）光罩洁净技术，解决无保护膜EUV光罩的落尘问题，今年成功使落尘削减率超过99%，累计创造新台币20亿元改善效益。
台积电的EUV微影制程光罩技术，是推动5奈米制程的关键技术，而依制程需求，EUV微影制程光罩分为有保护膜及无保护膜两种，台积电选用无保护膜的EUV光罩，提高透光性，减少EUV微影制程曝光光能损耗。
但是无保护膜EUV光罩会发生落尘问题，台积电品质暨可靠性组织携手技术发展、营运组织，自107年起共同开发落尘分析技术，并研发出干式EUV光罩洁净技术。
这项技术可透过干式技术快速去除落尘，取代需要使用纯水与化学品的湿式清洁手法；同时以次奈米级分析技术精准定位落尘来源，从根本排除污染源。
据统计至109年，台积电成功使落尘削减率超过99%。由于该项技术的导入，大幅缩短光罩保修频率与时间，使光罩使用率跃升超过80%，并延长先进制程EUV光罩寿命，累计创造的改善效益达20亿元。
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