【大纪元2025年07月17日讯】（大纪元记者杨旭综合报导）周三全球最大光刻机制造商ASML的股价在阿姆斯特丹下跌了11%。其首席财务官警告称，关税谈判的不确定性促使美国芯片制造商推迟最终投资。
周三（7月16日），光刻机制造商股价在阿姆斯特丹股市下跌了11%，至630.70欧元，这是自今年1月27日以来的最大盘中跌幅。过去一年中，该公司的市值已缩水约1400亿欧元（1550亿美元）。
ASML首席执行官克里斯托夫・富凯（ Christophe Fouquet）撤回了2026年销售额将增长的预测，并将其归咎于贸易争端和全球紧张局势。
富凯在一份声明undefined中表示：“我们持续看到宏观经济和地缘政治发展带来的不确定性日益增加。因此，虽然我们仍在为2026年的增长做准备，但目前还无法确认。”
首席财务官罗杰·达森(Roger Dassen)则表示，美国可能对欧洲商品征收30%的关税，这可能导致单台高端机器的价格从2.5亿欧元上涨至3.25亿欧元。
ASML公布今年第二季度订单额达55亿欧元，超出预期。
ASML下一代光刻机是高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，它通过提高数值孔径（NA）来提升分辨率，从而实现更小的特征尺寸和更高的晶体管密度。ASML是目前唯一能够生产EUV光刻机的公司，而高NA EUV光刻机是其最新产品，以满足3nm以下工艺节点的需求。
“日经亚洲”周三（7月16日）报导，高数值孔径（High-NA）EUV光刻机单价3.5亿美元，是迄今为止最昂贵的芯片制造工具。业内人士则称它是迄今为止最复杂的机器。
光刻机重达15万公斤，长14米，高4米，宽4米，由数百万个组件组成。在光源容器中，强大的激光每秒撞击5万个锡滴，产生EUV光。
在晶圆处理机中，精密机械臂将晶圆移入和移出系统的真空环境，以高定位精度和恒定的温度进行操作。晶圆台在每次曝光时将晶圆定位在精度小于一纳米（约4个硅原子）的位置，每秒检查和调整20,000次。
ASML技术执行副总裁 约斯・本肖普（Jos Benschop）表示，高数值孔径（High-NA）EUV光刻机必须彻底重新设计，因为其光源波长仅为13.5纳米，而早期 DUV系统使用的波长为193纳米。通常，光波长越短，可打印的芯片设计电路图案就越精细。
开发下一代高数值孔径 EUV技术同样复杂。例如，仅重新设计投影光学系统和照明系统就耗费了八年多的时间。照明系统是机器的核心部件，负责塑造和聚焦光线，将芯片设计投射到晶圆上。
ASML供应商卡尔蔡司表示，高数值孔径EUV光刻机的光学系统包含约65,000个零件，生产周期为一年。该公司向《日经亚洲》透露，该系统的开发耗时超过1000万小时，并与ASML合作了25年。
这些机器的复杂性是 ASML最大的竞争优势之一。ASML在尖端芯片制造领域的独家优势，尤其是在 EUV光刻机方面，甚至超过了全球顶级芯片制造商台积电。
责任编辑：孙芸＃
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