美公司控前中国经理窃机密 自组公司

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【大纪元1月7日讯】(大纪元记者白玉综合编译) 全球最大半导体制程设备与服务供应商——美国应用材料公司(Applied Materials)近日向加州法院提交诉讼,指控上海中微半导体设备有限公司(Advanced Micro-Fabrication Equipment,AMEC)涉嫌窃取商业机密。中微公司董事长兼CEO尹志尧(Gerald Yin)和执行副总裁陈爱华(Aihua Chen)都曾在应用材料公司担任要职。这是一场前中国雇员离开美国公司回中国创业,而引发的智慧财产及专利拥有权的争夺战。

根据InfoWorld和EE Times网站报导说,尹志尧曾在1991至2004年于应用材料公司担任过多个职务,包括蚀刻产品部(etch products group)总经理。陈爱华也曾在应用材料公司担任过多个职务,包括CVD(Chemical Vapor Deposit)产品部门的总经理。他们在应用材料公司的职位可以取得多项公司的智慧财产。

根据诉讼文件,应用材料公司指控中微窃取商业机密并利用来开发蚀刻和CVD 产品,AMEC的产品将与应用材料竞争同类产品,而应用材料的产品研发经费达数百万美元。应用材料向法庭诉求“禁止令”以保护商业机密,并希望惩罚性损害赔偿。

应用材料公司指控,前雇员在离开公司时曾签订协议,使应用材料拥有前雇员在受聘期间研发产品的一切权利,以防止他们使用机密资料。根据双方达成的协议,前雇员离职一年内的任何专利申请也是属于应用材料公司。而AMEC在2005年8月5日、离职一年零三天的时间在中国申请专利,其后又在日本和美国申请专利。

应用材料公司向加州法院提起诉讼后,中微公司声称美国法院对中微没有司法管辖权。加州北区法院大法官威尔(James Ware)将于2月11日开庭,对中微公司提出的不予受理请求做出回应。

(http://www.dajiyuan.com)

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