【大紀元2025年12月09日訊】（大紀元記者黃小堂紐約報導）紐約州府在奧本尼納米科技綜合園區（Albany NanoTech Complex）投資10億美元的研究設施中心「NanoFab Reflection」已完成主體結構施工。州長霍楚（Kathy Hochul）12月8日與紐約州經濟發展廳、紐約州高科技研發與經濟發展中心等官員舉行上梁儀式，象徵這項關鍵設施邁入重要階段。該中心定位為北美首座公有的尖端光刻技術中心，州府視其為推動下一代晶片技術與重振本土製造的重要基地。
州府表示，這項投資將帶動約90億美元的私人資金投入，並支持數百個高科技永久職位，同時促進與大學、人才培訓機構及全球半導體企業的合作擴張。上梁儀式亦象徵工程進度如期推進，整體建物預計在明年底前完工。
根據紐約州規劃，州府先出資10億美元，在州立大學奧本尼分校園區內興建一座5萬平方英尺的新無塵室大樓，並將配置荷蘭艾司摩爾公司（ASML Holding）的下一代高數值孔徑極紫外光刻設備，打造北美首座尖端的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）光刻系統。待設施建成後，IBM、美光（Micron）、應用材料（Applied Materials）與東京電子等企業將投入約90億美元，在此進行先進半導體研發與下一代晶片製造。
霍楚表示，這項投資將強化紐約在全球科技競爭中的地位，「我們正在為先進晶片研發建立未來的基礎，這將帶來更多工作與更具韌性的創新經濟。」
紐約州高科技研發與經濟發展中心（NY CREATES）總裁安德森（Dave Anderson）稱，新設施正吸引更多企業將研發活動移往紐約。他指出，該中心將成為推動未來晶片技術的重要樞紐。
紐約州經濟發展廳（ESD）廳長奈特（Hope Knight）則表示，州府正透過公私資金搭配方式，擴大半導體研發與製造布局，期望在美國強化晶片供應鏈的政策環境下取得更大優勢。
責任編輯：陳玟綺
