【大纪元2025年12月09日讯】（大纪元记者黄小堂纽约报导）纽约州府在奥本尼纳米科技综合园区（Albany NanoTech Complex）投资10亿美元的研究设施中心“NanoFab Reflection”已完成主体结构施工。州长霍楚（Kathy Hochul）12月8日与纽约州经济发展厅、纽约州高科技研发与经济发展中心等官员举行上梁仪式，象征这项关键设施迈入重要阶段。该中心定位为北美首座公有的尖端光刻技术中心，州府视其为推动下一代晶片技术与重振本土制造的重要基地。
州府表示，这项投资将带动约90亿美元的私人资金投入，并支持数百个高科技永久职位，同时促进与大学、人才培训机构及全球半导体企业的合作扩张。上梁仪式亦象征工程进度如期推进，整体建物预计在明年底前完工。
根据纽约州规划，州府先出资10亿美元，在州立大学奥本尼分校园区内兴建一座5万平方英尺的新无尘室大楼，并将配置荷兰艾司摩尔公司（ASML Holding）的下一代高数值孔径极紫外光刻设备，打造北美首座尖端的高数值孔径（High-NA）极紫外光（EUV）光刻系统。待设施建成后，IBM、美光（Micron）、应用材料（Applied Materials）与东京电子等企业将投入约90亿美元，在此进行先进半导体研发与下一代晶片制造。
霍楚表示，这项投资将强化纽约在全球科技竞争中的地位，“我们正在为先进晶片研发建立未来的基础，这将带来更多工作与更具韧性的创新经济。”
纽约州高科技研发与经济发展中心（NY CREATES）总裁安德森（Dave Anderson）称，新设施正吸引更多企业将研发活动移往纽约。他指出，该中心将成为推动未来晶片技术的重要枢纽。
纽约州经济发展厅（ESD）厅长奈特（Hope Knight）则表示，州府正透过公私资金搭配方式，扩大半导体研发与制造布局，期望在美国强化晶片供应链的政策环境下取得更大优势。
责任编辑：陈玟绮
