【大纪元2022年06月19日讯】（大纪元记者侯骏霖报导）半导体先进制程下次决战点在2奈米，但各大厂包括台积电、三星（Samsung）、英特尔（Intel），都开始为下个世代、埃米（angstorm）时代进行布局，而High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光刻）技术将是延续摩尔定律的关键，因此各大厂将积极引进设备，争夺先进制程话语权。
根据艾司摩尔（ASML）最新的2024-2025年路径图来看，如果要抵达具有高数值孔径的下一阶段，所需时间可能要比预估的少。
目前艾司摩尔推出的3代EUV曝光设备，生产晶片精度最多2奈米，一旦要进入2奈米以下的埃米时代，就得透过更高精准度的曝光设备生产，须使用最先进的High-NA EUV微影设备，这也成为先进制程决胜的关键。
艾司摩尔新一代 High-NA EUV（EXE:5200），是迈向2奈米先进制程的关键武器，由于精密度更高、设计零件更多，机型不但比前一代还大3成，重量更超过200公吨的双层巴士，预估每台造价约4亿美元（约新台币118.86亿元）。
英特尔今年率先宣布，已向艾司摩尔购买业者首台High-NA量产型EUV设备EXE:5200，每小时晶圆曝光产能逾200片，英特尔指出，未来预计会在2025年使用该设备生产；有分析师也认为，如果英特尔你抢先运用这项设备进行生产，恐怕在半导体“摩尔定律”的竞赛上，有机会超车台积电。
但台积电日前于北美技术论坛首度谈及EUV设备布局，指出预计在2024年引入EXE:5200，主要用于与合作伙伴的研究。不过，台积电没有透露大规模量产的时间点。
TechInsights半导体经济学家G. Dan Hutcheson表示，台积电打算2024年拥有这项设备，就能更快速接触到最先进技术。
其实早在英特尔要买EXE:5200之前，业界就已传出台积电早与艾司摩尔采购EXE:5000的机型，除了抢下大部分机台以外，相关设备今年就可以开始供货，每小时生产182片晶圆，与量产型机台差异不大。
故业界认为，英特尔即便率先取得EXE:5200，但对产能帮助可能有限，想夺得未来埃米时代的市场霸主地位，仍是充满挑战。
责任编辑：玉珍
