【大纪元2026年06月29日讯】（大纪元记者刘雅娴报导）此前向中国企业泄露韩国半导体材料企业核心技术，并协助挖角研究人员的前研究员，在二审中全部被判处实刑。
韩国大田高等法院6月19日就违反《产业技术流出防止及保护法》等罪名，维持对韩国某半导体材料企业前研究员A某判处有期徒刑2年6个月的一审判决。另外两名共犯则因检方上诉成功，分别改判有期徒刑2年、并处罚金2,000万韩元，及有期徒刑1年6个月。两人在一审原本获判缓刑，二审改判实刑后，被当庭收押。
法院认定，被告等人于2019年至2020年间，登入公司内部网络系统，窃取半导体芯片CMP（化学机械研磨）制程及CMP研磨液制造技术等核心资料并提供给中国企业。
CMP制程是将形成半导体电路的芯片表面研磨至原子级平坦度的重要工序，是影响先进制程半导体良率的核心技术之一；而CMP研磨液由研磨颗粒与化学材料混合而成，其制造流程及配方技术本身即具有高度商业价值，也是半导体材料企业的重要竞争力。
调查显示，A某于2018年未能升任公司高层后，便与一家中国企业约定共同推动CMP研磨液制造业务。之后，他在仍任职原公司的情况下，持续搜集内部技术资料，并参与中国当地生产设备建设及相关业务营运。
此外，他还接触其他半导体企业研究人员，游说其跳槽至中国企业，部分研究人员随后确实转职，并参与相关事业规划及技术研发。
法院指出，被告等人的行为已不只是侵害企业营业秘密，更严重损害韩国半导体产业的整体竞争力。法院认为，受害企业投入大量资金与人力累积的研发成果遭到窃取，不仅破坏公平竞争秩序，也对韩国半导体产业造成重大损害，因此有必要严惩，以发挥警示作用。
对于被告辩称外流资料并非国家核心技术或重要技术，法院也未予采纳。
此次判决受到业界高度关注，因本案不仅涉及核心技术外流，更伴随研究人员遭挖角及技术转移，被视为近年韩国半导体技术外流案件中最具代表性的案例之一。
业界分析指出，美国近年持续加强对中国半导体出口管制后，中国企业为建立自主供应链，正积极在韩国、台湾等半导体先进国家延揽人才并取得关键技术。事实上，韩国检方及产业通商资源部近年查获的海外技术外流案件，大部分集中于半导体领域，而中国则一直是主要流向国。
专家认为，不仅先进制程技术，包括材料、设备等关键技术，同样攸关国家竞争力，因此有必要进一步强化技术保护机制。
责任编辑：沐歌
