联电南科研发大楼动土

【大纪元2月16日报导】（中央社记者杨思瑞台南县十六日电）联华电子公司今天上午在南部科学园区举行研发大楼开工动土典礼，成为国内半导体首家到南科设立研发中心的厂商。董事长胡国强表示，联电将以创业公司的精神出发，着重务实、低调作风，设立南科研发中心的动作，也代表联电深耕台湾的决心。

胡国强指出，联电于南科投资三十亿美元兴建国内首座十二吋晶圆厂，已突破月产两万五千片的产能，九十奈米制程现为生产主力，六十五奈米制程已进入量产阶段。

联电南科研发中心预定于明年三月份完工，为一地上十层、地下两层大楼，约需招募一千一百名员工，其中研发工程师约需四百名；联电已于去年启用五星级员工宿舍大楼，未来将以更优渥的条件，吸引优秀研发人才回流南部。

南科管理局长戴谦则是盛赞联电选择南科设立研发中心，是根留台湾、爱台湾的最佳表现，这栋设计新颖的大楼不仅会成为南科的新地标，对南部高科技产业发展亦有指标作用。

今天的动土典礼也相当符合胡国强所宣示的低调作风，并没有邀请政府官员到场，仅南科管理局局长戴谦到场参与，对于联电遭因参与创设中国大陆和舰科技遭经部罚款五百万元，胡国强则说将会依法提起行政诉愿。