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台積65奈米低功耗技術 獲美商巨積採用

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【大紀元1月6日訊】(大紀元記者楊文容台灣台北報導)台積公司降低功耗的技術與服務獲得Tela Innovations公司獨家專利授權,今(6)日宣布,65奈米低功耗製程的降低功耗(PowerTrim)技術獲美商巨積公司(LSI Corporation)採用,能有效減少下一世代產品的總漏電耗能達25%以上。

台積公司表示,降低功耗的技術與服務,是將設計技術與先進半導體製程巧妙整和的創新技術,能有效降低每個產品的漏電耗能。藉由降低功耗軟體(PowerTrim Software)分析公司的設計,並微調閘極長度,能夠有效節能而不影響任何晶片尺寸或性能。

巨積公司產品及測試工程暨網路元件處處長Norm Lawrence表示,低功耗與高效能是產品成功的關鍵,藉由和台積公司密切的合作並採用Tela Innovations的降低功耗技術,產品減少了超過25%的漏電耗能,有效改善漏電的良率分布。

台積公司設計建構行銷處資深處長莊少特表示,協助客戶提高產品的競爭優勢,是台積公司創立開放創新平台的主要目標之一;提供客戶具有差異化價值的服務,是建構開放創新平台背後的核心目標。很高興巨積公司選用台積公司的降低功耗服務,並有效達到降低漏電功耗的成果。

台積公司降低功耗服務可與其他降低漏電的技術如multi-Vt cell libraries, reverse body biasing, header/footer sleep switches, and voltage islands等相容,可進一步減少漏電並強化節能效果,較臨介高壓電晶體的表現為佳。同時提供給採用先進製程技術(包括90奈米、80奈米、65奈米、及45奈米等)的客戶使用。

(http://www.dajiyuan.com)

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