【大纪元8月24日讯】（大纪元记者秦飞编译报导）由杜克大学、纽约大学及哈佛大学合作、库富曼基金会 (Ewing Marion Kauffman Foundation)本周三发布的一项研究报告显示，每年美国有超过一百万名技术移民——包括来自印度和中国的科学家及工程师——和他们的家人为十二万份绿卡配额而奋战。这一比例的失衡导致了“逆向人才流失”，大量技术移民选择返回祖国。
绿卡路太长选择回国
这一研究报告是一系列关注移民对美国经济的贡献及竞争力研究的第三部分。报告指出，技术移民“人才流失”已变得更为严重，因为美国目前给每个国家的工作签证配额平均在每年一万个以下，而排队时间则长达几年。
在这项名为 “知识产权，移民问题积压及逆向人才流失”的报告中，有一个重要发现﹕等待签证的技术员工人数远远高于可进入美国的人数。这一比例失衡导致了技术员工选择返回母国、导致逆向人才流失的可能。
“美国受益于这些外来者的创新”， 杜克大学普瑞特工程学院驻校学者沃德瓦（Vivek Wadhwa）说。“当外国人来到美国，与美国人合作进行发展和创新，并把这些创新用于在自己母国没有机会实现的实践中，整个世界都因此获利。”
根据“新移民调查”（New Immigrant Survey）的数据显示，2003年约五分之一的新合法移民及约三分之一的工作签证移民计划离开美国或不确定是否留下。调查作者没有数据可以具体显示多少外国公民已返回祖国。
外国人专利申请件数比例大幅上升
根据世界知识产权组织(World Intellectual Property Organization ，简称WIPO)的数据分析，显示了外国人在美国国际专利申请件数的比例从1998年的约7.3%上升到2006年的24.2%。最大的外国人团体为中国（大陆及台湾），其次为印度，加拿大和英国。
这一报告中的其它重要发现还包括：
——2006年美国递交的国际专利申请中定居美国的外国公民被命名为“发明者”或“合作发明者”的比例为25.6%。远高于1998年的7.6%。
——由大型跨国公司递交的国际专利申请中，有一半以上是由外国人完成的，其中包括高通(Qualcomm)(72 %)，默克( Merck ). (65 %)， 奇异( General Electric )(64 %)， 西门子(63 %) 和思科公司 (60 %)。而美国政府递交的专利申请中则有41%是由外国人担任发明者或合作发明者。
——2006年美国的国际专利申请中，16.8%的发明者或共同发明者为华裔，高于1998年的11.2%。印度裔发明者的专利申请从同期的9.5% 上升至13.7%。
完整报告可察看库富曼基金会的网站，网址为：www.kauffman.org。
新闻来源：杜克大学新闻稿
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