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【大纪元3月4日报导】（中央社台北4日电）为推动台湾半导体产业发展，国研院整合产、学、研三方能量成立“原子层沉积联合实验室”服务平台，将提升台湾半导体制程设备技术与化学材料开发的研发实力。
半导体制程中，原子层沉积技术（atomic layer deposition, ALD）由于具有极佳的薄膜成长厚度控制性、阶梯覆盖性与大面积均匀性，已成为半导体产业的1项主流技术，然而目前台湾的半导体产业设备供应链中，鲜少具有竞争力的薄膜制程设备供应商。
依照ALD产业成长趋势，2015年台湾在ALD设备及原材料的需求，预估将达到新台币77亿元产值，但台湾半导体厂必须仰赖国外设备商提供制程设备及前驱物材料，造成业者成本负担及技术限制，更无法掌控未来技术的发展蓝图。
国家实验研究院仪器科技研究中心已投入ALD相关研究逾10年，累积丰厚的技术能量，并已提供学界多套自制ALD系统，今天与台湾积体电路股份有限公司签订合作协议，希望能将本身的ALD技术能量推广到业界，提供半导体制造业ALD制程设备测试与开发验证的服务平台。
仪科中心表示，“原子层沉积联合实验室”平台服务内容包括前驱物的合成与筛选测试、制程测试与验证服务、客制化ALD设备与腔体开发等。
