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应用材料
【大纪元2月28日讯】(中央社记者何易霖新竹二十八日电)美商应用材料公司（Appalied Materials）宣布推出采用微距量测扫描式电子显微镜（CD-SEM）技术的高产能“VeritySEM”量测系统，使得微影控制与蚀刻制程的能力都有重大的改善，并能协助客户有效节省成本。这套系统已获亚洲、北美及欧洲等地晶圆厂采用。
应材表示，在迈向下一个世代的元件制程时，客户除了面临更先进技术和制程控制的挑战外，同时也需要简化12吋晶圆厂的晶圆制程（WIP－Wafer in Process）。VeritySEM量测系统采用新式的扫描式电子显微镜技术，对于65-45奈米的元件结构，严格监控氩氟（ArF）光阻结构、导线边缘的平滑度和形状，精确度达到小于5埃。
应材进一步指出，VeritySEM量测系统中所具备的新扫描式电子显微镜技术，在超低电压下 (200eV)，能提供小于1.8奈米的解析度，以及无变形的大视野扫描功能，并能协助量测45奈米产品的闸极和小于5埃精确度的氩氟（ArF）光阻结构设计。而创新多变的电子束电流控制模组可以改善信号干扰比率，促使更快且更扎实的制程自动化运作，进而提升产能。
此外，在误差1奈米范围之内，各种VeritySEM系统在同一晶圆厂内或不同晶圆厂之间都能相通，客户使用时，所消耗的营运成本将比使用市面上其他的CD-SEM系统减少1/3的费用。
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