外国学生申请美国研究所人数增加

【大纪元3月24日讯】（大纪元记者田清编译) 根据23日公布的调查，本学年外国学生申请美国大学研究所的人数比去年增加11%。这个成长扭转了911恐怖攻击之后2年的衰退。

纽约时报23日报导，代表超过450所大学的研究所协会(Council of Graduate Schools)的调查发现，整体申请数字虽然呈现增加，还是比2003年之前为低。先前的调查显示2003年第4季外国学生的申请衰退28%。

该会并没有提供本学年国际学生申请的详细数字，因为只有大约三分之一的会员大学回复调查。不过，拥有最多外国研究生的25所大学中有超过80%的学校有回复，协会认为这提供了这项调查的可信度。

协会认为申请人数回升有几个原因。2001年恐怖攻击之后，外国学生特别是科学和技术领域的学生面临取得签证的困难。政府虽然持续强调安全，不过最近的政策改变使得获得签证容易许多。

协会表示研究所也改善入学许可的的效率和流程。各方面采取的努力使美国成为“一个更好客的国家并且维持我们的全球创新领导地位。”

印度和中国过去几年一直派遣大量的研究生到美国大学，印度和中国学生申请美国学校大量增加了本学年的整体申请数字。调查显示，印度的申请增加23%，中国增加21%。

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