【大纪元2月28日电】国际商业机器公司（IBM）正式表态支持超紫外线（extreme ultraviolet，简称EUV）光蚀刻技术。获得IBM加入支持行列后，超紫外线光蚀刻技术基本土已取得所有主要芯片制造商的支持，意味着此技术将会成为半导体业先进芯片制造程序的新标准。
采用超紫外线光蚀刻技术可制造体积更小，运行速度更快的电脑晶片。英特尔、AMD、Infineon、Sandia和Lawrence Livermore国家实验室等都是EUV LLC的会员。IBM虽然支持EUV，但并没有放弃继续发展另一种蚀刻技术。
据CNET消息报导，与目前的蚀刻技术比较，EUV光蚀刻技术可让计算机制造商在芯片上绘制更小的电路。EUV光线的波长较短，芯片制造商得以将极为繁复的电路图投射到硅晶圆上。这种进步对于芯片业来说非常重要，否则，厂商数年后将陷入无法进一步浓缩芯片的瓶颈。
以EUV制程生产的芯片，可望于2005年问市，执行速度估计在10-GHz。Linley Group首席分析师Linley Gwennap说，IBM决定加入，是基于竞争力的考虑而采取的重要步骤。他说：“按EUV LLC的规定，成员公司可优先取得此技术。”他说，有鉴于EUV过去一、两年来的进展，大家公认EUV为胜出的技术，IBM最后决定加入不令人意外。
美国《微处理器报道》总编辑Steve Leibson说：“据我猜测，IBM加入是为了回避风险。”
IBM预定数周内正式宣布支持EUV。届时，芯片工业的前景将更为明确，芯片设备制造商也可松了口气，不用再担心他们必须支持另一种与EUV竞争的技术标准。
然而，IBM支持EUV，却未放弃自行尝试新的制程技术，称为Prevail。IBM仍会继续支持与Nikon联手发展的电子束蚀刻技术（electron beam lithography）。电子束蚀刻技术用电子束而非光束，在晶圆上投射芯片的电路图。IBM与Nikon将在下周于加州圣塔克拉拉举行的SPIE微蚀刻会议中，详述利用电子束蚀刻技术工具获致的技术突破。
电子束蚀刻技术能比EUV制造出更精细的分辨率，但涵盖的范围较EUV小，大量生产芯片的能力不及EUV。但IBM认为两种技术可互补，以EUV绘制较粗略的电路，以电子束绘制更精细、更重要的部分。
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