新一代芯片的标准制造程序

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【大纪元2月28日电】国际商业机器公司(IBM)正式表态支持超紫外线(extreme ultraviolet,简称EUV)光蚀刻技术。获得IBM加入支持行列后,超紫外线光蚀刻技术基本土已取得所有主要芯片制造商的支持,意味着此技术将会成为半导体业先进芯片制造程序的新标准。

采用超紫外线光蚀刻技术可制造体积更小,运行速度更快的电脑晶片。英特尔、AMD、Infineon、Sandia和Lawrence Livermore国家实验室等都是EUV LLC的会员。IBM虽然支持EUV,但并没有放弃继续发展另一种蚀刻技术。

据CNET消息报导,与目前的蚀刻技术比较,EUV光蚀刻技术可让计算机制造商在芯片上绘制更小的电路。EUV光线的波长较短,芯片制造商得以将极为繁复的电路图投射到硅晶圆上。这种进步对于芯片业来说非常重要,否则,厂商数年后将陷入无法进一步浓缩芯片的瓶颈。

以EUV制程生产的芯片,可望于2005年问市,执行速度估计在10-GHz。Linley Group首席分析师Linley Gwennap说,IBM决定加入,是基于竞争力的考虑而采取的重要步骤。他说:“按EUV LLC的规定,成员公司可优先取得此技术。”他说,有鉴于EUV过去一、两年来的进展,大家公认EUV为胜出的技术,IBM最后决定加入不令人意外。

美国《微处理器报道》总编辑Steve Leibson说:“据我猜测,IBM加入是为了回避风险。”

IBM预定数周内正式宣布支持EUV。届时,芯片工业的前景将更为明确,芯片设备制造商也可松了口气,不用再担心他们必须支持另一种与EUV竞争的技术标准。

然而,IBM支持EUV,却未放弃自行尝试新的制程技术,称为Prevail。IBM仍会继续支持与Nikon联手发展的电子束蚀刻技术(electron beam lithography)。电子束蚀刻技术用电子束而非光束,在晶圆上投射芯片的电路图。IBM与Nikon将在下周于加州圣塔克拉拉举行的SPIE微蚀刻会议中,详述利用电子束蚀刻技术工具获致的技术突破。

电子束蚀刻技术能比EUV制造出更精细的分辨率,但涵盖的范围较EUV小,大量生产芯片的能力不及EUV。但IBM认为两种技术可互补,以EUV绘制较粗略的电路,以电子束绘制更精细、更重要的部分。


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